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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:OTSUKA大塚電子光譜干涉式晶圓測厚儀SF-3naitokikai

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品廠商:OTSUKA大塚電子
  • 產(chǎn)品價格:0
  • 折扣價格:0
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
在晶圓的研磨、拋光等過程中,可以超高速、高精度、非接觸地測量晶圓和樹脂的厚度。 銷售中心-重慶內(nèi)藤naitokikai
詳情介紹:
特征
  • 通過光學(xué)方法可以進行非接觸式和非破壞性的厚度測量。
  • 實現(xiàn)高測量再現(xiàn)性
  • 可實時高速監(jiān)控拋光
  • 實現(xiàn)了長 WD(工作距離)并且易于集成到設(shè)備中
  • 從主機設(shè)備使用 LAN 通過 TCP/IP 通信進行控制
  • 可以進行多層厚度測量
  • 可測量臨時晶圓(臨時鍵合晶圓)各層厚度

5個特點

 

測量項目
  • 厚度測量(5層)

 

用法
  • 各種晶圓(硅、其他化合物晶圓)的厚度測量
  • 融入各種工藝,如研磨、拋光、粘合等。
  • 晶圓以外的厚膜部件厚度測量

 

集成到半導(dǎo)體工藝中的示例
■ 臨時粘合

 

 

 

■ 背景研磨

 

背景趨勢圖

 

 

■ 濕蝕刻

 

 

 

■ CMP工藝

 

規(guī)格

SF-3規(guī)格

*1 : 測量初始標(biāo)準樣品 AirGap 約 1000 μm 時的相對標(biāo)準偏差 (n = 20)
*2 : WD80 mm 探頭規(guī)格的設(shè)計值

設(shè)備配置

映射

■ 300 毫米晶圓測繪系統(tǒng)

  • 通過對準精細圖案提供晶圓厚度和各種厚度信息
  • 配備高精度XY定位平臺(±2μm以下),實現(xiàn)高精度定位
  • 可以處理晶圓以外的形狀
  • 可以檢查測量點周圍的視野
  • 對應(yīng)半導(dǎo)體用300mm晶圓
  • 與 MEMS 和傳感器設(shè)備兼容

 

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